赛思实验室新增一台FIB-SEM双束系统

发布时间:2024-03-25 作者:无锡英诺赛思科技有限公司 点击次数:254

内容概要:


Crossbeam 350 新一代高性能聚焦离子束/扫描电镜双束系统介绍


80mm大尺寸样品交换仓,换样简单方便

性能特点:

离子束:

最大100nA束流控制出精细束斑

探针电流:1pA-100nA

→ 快速样品切割和纳米加工

高分辨率:3nm (@30kV)静态统计法

120nm(@1kV)

→ 适用于精准加工应用需求

→ 适用于FIB清晰成像

离子束加速电压范围:500V - 30kV

→ 样品制备过程中最小化的损伤和非晶化

放大倍数:300x-500000x

离子束流长时间稳定性

→ 离子源单次加热可连续工作72小时以上

→ 后台软件控制离子源全自动加热恢复

(可胜任7/24小时无间断工作)

→ 超长离子源使用寿命长1500h / 3000μAh

电子束:

高分辨率:0.9nm (@15kV),1.7nm(@1kV)

加速电压范围:200V - 30kV,10V步进

放大倍率:12x-2000000x(SEM)

最大存储分辨率:32kx24k

束流:3pA-40nA

FIB-SEM双束显微镜的主要应用

透射制样


微柱切割



三维原子探针制样


截面切割和观察


微纳加工


三维重构


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