清华大学无锡应用技术研究院集成电路创新服务平台
发布时间：2024-03-25 作者：无锡英诺赛思科技有限公司 点击次数：1084
Crossbeam 350 新一代高性能聚焦离子束/扫描电镜双束系统介绍
80mm大尺寸样品交换仓，换样简单方便
性能特点：
离子束：
最大100nA束流控制出精细束斑
探针电流：1pA-100nA
→ 快速样品切割和纳米加工
高分辨率：3nm (@30kV)静态统计法，
120nm(@1kV)
→ 适用于精准加工应用需求
→ 适用于FIB清晰成像
离子束加速电压范围：500V - 30kV
→ 样品制备过程中最小化的损伤和非晶化
放大倍数：300x-500000x
离子束流长时间稳定性
→ 离子源单次加热可连续工作72小时以上
→ 后台软件控制离子源全自动加热恢复
(可胜任7天/24小时无间断工作)
→ 超长离子源使用寿命长：1500h / 3000μAh
电子束：
高分辨率：0.9nm (@15kV),1.7nm(@1kV)
加速电压范围：200V - 30kV,10V步进
放大倍率：12x-2000000x(SEM)
最大存储分辨率：32kx24k
束流：3pA-40nA
FIB-SEM双束显微镜的主要应用
透射制样
微柱切割
三维原子探针制样
截面切割和观察
微纳加工
三维重构
